納米石墨NMP漿料研磨分散機，石墨烯油墨研磨分散機，石墨烯油墨生產設備，石墨烯油墨生產工藝，石墨烯高剪切研磨分散機，石墨烯剝離設備，石墨烯高剪切分散機，石墨烯分層設備

膨脹石墨原料經過氧化還原法制成，加NMP 用于導電漿料，鋰電池漿料

石墨烯漿料分為兩種，以水為介質分散叫水性，以NMP為介質分散叫油性，石墨烯根據石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料，影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多，設備的選型，分散劑的使用，固含量的把握 

石墨烯主要制備方法：
制備石墨烯常見的方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學氣相沉積法（CVD）。

1.機械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運動，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結構，但是得到的片層小，生產效率低。

2.氧化還原法是通過將石墨氧化，增大石墨層之間的間距，再通過物理方法將其分離，***后通過化學法還原，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單，產量高，目前國內使用氧化，還原法制作石墨烯漿料的，如：寧波墨
稀、東莞鴻納、第六元素等企業(yè)，

3.SiC外延法是通過在高真空的高溫環(huán)境下，使硅原子升華脫離材料，剩下的C原子通過自組形式重構，從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質量的石墨烯，但是這種方法對設備要求較高

4.CVD也叫氣相沉積法是目前***有可能實現工業(yè)化制備高質量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質量高的特點，國內用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

石墨烯水性漿料生產設備

IKN石墨烯研磨設備采用德國先x的高速研磨分散技術，通過高
轉速（***高可達14000rpm）帶動高精密的磨頭定轉子（通常配CM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
 

石墨烯水性漿料生產設備

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
    

 納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

IKN石墨烯研磨設備采用德國先x的高速研磨分散技術，通過高
轉速（***高可達14000rpm）帶動高精密的磨頭定轉子（通常配CM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。

IKN研磨分散機簡介： 

石墨烯高剪切研磨機，石墨烯研磨設備，石墨烯高速剪切研磨分散機，IKN石墨烯研磨設備采用德國先x的高速研磨分散技術，通過高轉速（***高可達14000rpm）帶動高精密的磨頭定轉子（通常配CM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。