高分子吸波隱身材料研磨分散機(jī)，高分子吸波隱身材料生產(chǎn)設(shè)備，高分子高分子吸波材料研磨分散機(jī)，高分子高分子吸波材料生產(chǎn)設(shè)備，高分子吸波涂料研磨分散機(jī)，高分子吸波涂料生產(chǎn)設(shè)備

高分子是一種二維材料，具有優(yōu)異的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。由于高分子是納米級(jí)，具有新的性能。根據(jù)理論推導(dǎo)，高分子會(huì)吸收πα≈2.3%的白光（α指精細(xì)結(jié)構(gòu)場(chǎng)數(shù)）。目前，高分子作為電磁干擾吸波材料在都處于起步階段。而相關(guān)研究表明，高分子所具備的片貌相對(duì)于棒狀狀形或球狀對(duì)材料的吸波性更加有利。

高分子吸波隱身材料，高分子高分子吸波材料，高分子吸波涂料，產(chǎn)品達(dá)到到意想不到的屏蔽效果。吸波材料，指能吸收投射到它表面的電磁波能量的一類材料。在本產(chǎn)品，除要求吸波材料在較寬頻帶內(nèi)對(duì)電磁波具有高的吸收率外，還要求它具有質(zhì)量輕、耐溫、耐濕抗腐蝕等性能。吸波材料性能優(yōu)勢(shì)PVA/高分子： 60.1 db （x波段）

吸波材料用途

電磁吸波材料適用于手機(jī)、FPC、電腦、IC芯片、LCD/數(shù)
 
碼攝像機(jī)主板，PDP/數(shù)碼相機(jī)等各種排線。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國x設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)總線重要因素，高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得細(xì)微懸浮液是總線重要的

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，高線速度的吸料式葉輪提供強(qiáng)切割力

更可靠 采用整體式機(jī)械密封，總線大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國 x先x的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及細(xì)濕法粉碎的要求.